Analisis Prestasi Tantalum

Analisis prestasi tantalum

Tantalum, unsur logam, terutamanya wujud dalam bijih tantalit dan bersimbiotik dengan niobium. Tantalum sangat keras dan mulur, dan boleh ditarik ke dalam filamen untuk membuat kerajang nipis. Pekali pengembangan habanya sangat kecil. Tantalum mempunyai sifat kimia yang sangat baik dan sangat tahan terhadap kakisan. Tidak kira dalam keadaan sejuk atau panas, ia tidak bertindak balas terhadap asid hidroklorik, asid nitrik pekat dan "aqua regia". Ia boleh digunakan untuk membuat bekas penyejatan, dsb., dan juga boleh digunakan sebagai elektrod, penerus, elektrolisis, dan kapasitor untuk tiub elektron. Ia digunakan secara perubatan untuk membuat kepingan nipis atau benang untuk membaiki tisu yang rosak.

Tantalum juga mempunyai sifat kimia yang sangat baik dan rintangan kakisan yang sangat tinggi. Tidak kira dalam keadaan sejuk atau panas, ia tidak bertindak balas terhadap asid hidroklorik, asid nitrik pekat dan "aqua regia".

Walau bagaimanapun, tantalum boleh terhakis dalam asid sulfurik pekat panas. Di bawah 150 darjah , tantalum tidak akan terhakis oleh asid sulfurik pekat. Ia hanya akan bertindak balas pada suhu yang lebih tinggi daripada ini. Dalam asid sulfurik pekat pada 175 darjah selama satu tahun, ketebalan kakisan ialah 0.0004 mm. Apabila tantalum direndam dalam asid sulfurik pada 200 darjah selama satu tahun, lapisan permukaan hanya rosak sebanyak 0.006 mm.

Pada 250 darjah, kadar kakisan meningkat, dengan ketebalan 0.116 mm setahun. Pada 300 darjah, kadar kakisan lebih cepat. Selepas 1 tahun rendaman, permukaannya terhakis sebanyak 1.368 mm. Kadar kakisan dalam asid sulfurik wasap (mengandungi 15% SO3) adalah lebih serius berbanding dengan asid sulfurik pekat. Selepas direndam dalam larutan ini pada suhu 130 darjah selama satu tahun, ketebalan permukaan yang terhakis ialah 15.6 mm.

Tantalum juga akan terhakis oleh asid fosforik pada suhu tinggi, tetapi tindak balas ini biasanya berlaku melebihi 150 darjah. Selepas merendam dalam 85% asid fosforik pada 250 darjah selama satu tahun, permukaan akan terhakis sebanyak 20 mm. Selain itu, tantalum akan terhakis oleh asid hidrofluorik dan asid nitrik. Ia boleh cepat larut dalam asid campuran dan juga boleh larut dalam asid hidrofluorik.

Tetapi tantalum lebih takut kepada alkali yang kuat. Dalam larutan soda kaustik dengan kepekatan 110 darjah dan kepekatan 40%, tantalum akan cepat dibubarkan. Dalam larutan kalium hidroksida dengan kepekatan yang sama, ia akan cepat larut pada 100 darjah. Kecuali situasi di atas, garam tak organik am umumnya tidak boleh menghakis tantalum di bawah 150 darjah.

Eksperimen telah menunjukkan bahawa tantalum tidak mempunyai kesan ke atas larutan alkali, gas klorin, air bromin, asid sulfurik cair dan banyak bahan kimia lain pada suhu normal. Ia hanya bertindak balas di bawah tindakan asid hidrofluorik dan asid sulfurik pekat panas. Situasi sedemikian agak jarang berlaku dalam logam.