Pembuatan Silicon Carbide
Bentuk:Bentuk Ketulan/Serbuk
Serbuk Silicon Carbide Untuk Refraktori
Description/kawalan
Penerangan
Silicon Carbide, atau SiC, telah muncul sebagai bahan kritikal dalam pembangunan teknologi generasi akan datang kerana sifat uniknya iaitu kekonduksian haba yang tinggi, rintangan kejutan haba yang tinggi dan sifat elektrik yang unggul.
SiC digunakan secara meluas dalam pelbagai industri seperti elektronik kuasa, automotif, aeroangkasa, dan pertahanan kerana keupayaannya untuk beroperasi pada suhu dan voltan yang lebih tinggi berbanding dengan bahan tradisional.
Dahulu, SiC hanya terdapat dalam kuantiti yang kecil dan sukar untuk dihasilkan kerana suhu dan tekanan yang tinggi yang diperlukan. Walau bagaimanapun, dengan kemajuan teknologi terkini, pembuatan SiC telah menjadi lebih cekap dan kos efektif.
Spesifikasi
| Model | Peratus komponen | |||
| 60# | SiC | F.C | Fe2O3 | |
| 65# | 60min | 15-20 | 8-12 | 3.5 maks |
| 70# | 65min | 15-20 | 8-12 | 3.5 maks |
| 75# | 70min | 15-20 | 8-12 | 3.5 maks |
| 80# | 75min | 15-20 | 8-12 | 3.5 maks |
| 85# | 80min | 3-6 | 3.5 maks | |
| 90# | 85min | 2.5 maks | 3.5 maks | |
| 95# | 90min | 1.0maks | 1.2 maks | |
| 97# | 95min | 0.6 maks | 1.2 maks | |
Penghasilan SiC melibatkan dua proses utama: pemendapan wap kimia dan pensinteran. Pemendapan wap kimia melibatkan pertumbuhan lapisan SiC pada substrat pada suhu tinggi dan tekanan rendah. Pensinteran pula melibatkan penyatuan serbuk SiC melalui haba dan tekanan untuk membentuk bahan SiC pepejal.
Terdapat pelbagai jenis teknik pembuatan SiC yang tersedia, termasuk proses pemejalwapan, kaedah Lely yang diubah suai, dan kaedah pertumbuhan PVT. Setiap kaedah ini mempunyai kelebihan dan kekurangannya, dan pilihan kaedah bergantung pada aplikasi dan keperluan tertentu.
Proses pemejalwapan melibatkan pemanasan serbuk SiC dalam mangkuk grafit pada suhu tinggi, menyebabkan serbuk menjadi sublim dan memendap pada substrat. Kaedah ini sesuai untuk menghasilkan kristal SiC ketulenan tinggi dan berkualiti tinggi.
Kaedah Lely yang diubah suai melibatkan pemanasan campuran serbuk SiC dan grafit dalam pijar, menyebabkan SiC memendap pada hablur benih. Kaedah ini sesuai untuk menghasilkan wafer SiC kristal tunggal untuk aplikasi elektronik.
Kaedah pertumbuhan PVT melibatkan pertumbuhan kristal SiC daripada kristal benih di bawah suhu dan tekanan tinggi. Kaedah ini lebih disukai untuk menghasilkan kristal SiC yang besar dan berkualiti tinggi untuk aplikasi elektronik kuasa.
Kesimpulannya, pembuatan SiC memainkan peranan penting dalam pembangunan teknologi generasi akan datang. Dengan kemajuan dalam teknik pembuatan, pengeluaran SiC telah menjadi lebih kos efektif dan cekap. Pilihan kaedah pembuatan bergantung pada aplikasi dan keperluan khusus, dan SiC mempunyai potensi untuk merevolusikan pelbagai industri kerana sifat uniknya.
Soalan Lazim
S: Adakah anda sebuah kilang atau syarikat perdagangan?
A: Kami adalah pengilang.
S: Berapa lama masa penghantaran anda?
A: Masa penghantaran bergantung pada kuantiti pembelian anda dan musim pengeluaran.
S: Apakah cara penghantaran anda?
A: Penghantaran ekspres, penghantaran laut tersedia untuk permintaan anda.
Cool tags: pembuatan silikon karbida
Hantar pertanyaan
Anda mungkin juga berminat
